光刻机概念股唯一龙头股
作者:飞天马  鼎财 - A股
2020-05-20 20:22:57
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光刻机又叫掩模对准曝光机,光刻系统等,用光来制作一个图形工艺,将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时复制到硅片上的过程。半导体制造过程中最复杂也是最难的步骤就是光刻,光刻机也因此成为最重要的半导体制造设备,研发的技术门槛和资金门槛非常高,是全球最复杂的机器之一。   高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种,分辨率通常七纳米至几微米之间,高端光刻机号称世界上最精密的仪器,世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。 2019年起,半导体芯片进入7nm时代开始(现在我们处于10nm时代),台积电和三星都准备量产7纳米的EUV工艺,并且明年也会是5纳米工艺的一个重要节点。要知道,在半导体制造的工艺中,最重要而且最复杂的就是光刻步骤,往往光这部分的成本就能占到33%左右,所以半导体想要有突破性的发展,和光刻机的提升密不可分。   我国的半导体企业虽然目前落后于西方国家,但是在上个世纪的六七十年代,我们的半导体行业虽然没有达到世界一流水平,但是几乎差距是不太大的,更重要的是建立从单晶制造到设备制造,集成电路等产业链的完善。 但是后来随着整体企业思维的转变,认为自己造的不如买得来得快,所以很多企业都是直接的放弃自主研发的道路,开始直接购买一些核心的设备,而这期间光刻机领域内霸主已经出现,就是荷兰ASML公司。再加上后续的研究没有跟上,导致我们在即便是在半导体行业中有一些成果,依旧没有在高端的光刻机领域内留下属于自己的声音,这未免成为遗憾。   目前我国光刻机和荷兰ASML公司生产的光刻机差距有多大   其实能够正事差距,才能够更好地去发展我们的产业,在07年的时候,上海微电子有限公司研发出来90纳米工艺的光刻机,但是已经过去将近13年了,依旧还是停留在量产的14纳米的程度,而荷兰ASML公司现在已经能够生产出来7纳米甚至是5纳米量产的光刻机,这里面的差距不可谓不大。   造光刻机甚至比造原子弹还要难一点,尤其是高端光刻机的制造,并不是一个国家的制造体系和科研能力能够完成的事情。光刻机也是一样的原理,只不过相纸变成了光刻胶,用到的光源可不是普通的光源,是精细度要求非常高的光源,也是高端光刻机中制造工艺最高精尖的部件。   像荷兰7nm光刻机用到的光源,波长只有13.5纳米,这种光源不是那个国家随便就能造出来的,这也是制造光刻机最难的地方之一。   中国要造出5nm的光刻机需要多长时间呢?个人认为,应该还需要10年左右。要制造一部光刻机,最核心的部件就是镜头和激光光源,而现在中国在这两项技术上还非常的落后。现在全球能够生产5nm及以上光刻机的厂家只有一个,就是荷兰的ASML,而其中最根本的原因就是光源。现在,ASML是全球唯一一家掌握了极紫外光源技术的公司,要想突破7nm的这个技术瓶颈,就必须使用极紫外光源。最近,中芯国际就向ASML成功订购了一台光刻机,可以生产出7nm的芯片,但是,这台光刻机都不是EUV光源的,使用的是浸润ArF技术,也就是说7nm已经是这台光刻机的极限了。为什么中芯国际不去买EUV的光刻机呢?因为,最早极紫外光源的研究是多个国家参与的,包括了欧洲多国还有日本、韩国。那我们国家有没有正致力于,光刻机光源研究的企业呢?有的!   光刻机光源概念唯一龙头股——华特气体,特种气体民族品牌崛起助力国产光刻机发展   华特气体成立于1999年,总部位于广东佛山,经过20多年的发展,通过不断引进、改良、创新电子特气生产技术,目前已成为国内最大的综合性气体企业之一。光刻气体作为光刻机产生深紫外激光的光源。不同的光刻气能产生不同波长的光源,其波长直接影响了光刻机的分辨率,是光刻机的核心之一。国内近年连续建设了多条8寸、12寸大规模集成电路生产线、高世代面板生产线,同时国家也发布了多项指导性文件,推动关键材料国产化,其中就包括特种气体。为保障供货稳定、服务及时、控制成本,特种气体国产化的需求迫切。    
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